更何况阿斯麦最先进的EUV光刻机，也是优先供应其他几家大的合作公司，包括宝积电，但肯定不包括华星科技。
所以易安国是有钱，也只能买到他们的DUV光刻机。光刻机是制造芯片的核心装备之一。
在工业领域中，最难的不是设计芯片，而是制造芯片。
关于芯片设计的研究，全球多不胜数，有ARM、x86等大量架构可用，即便重新研发一个芯片架构也不算太难，例如RISC开源架构的初始研发团队，就只有几十个人。
但芯片制造不同，要把数十亿晶体管集成在一块几毫米的芯片中，需要集成全球几乎所有的高端设备技术，以及相关人材。
众所周知，德国机床设计相当复杂，国内与其仍有很大的差距，但光刻机的制造难度，恐怕要比最复杂的机床还要难百倍以上。
光刻机与机床最相似的地方，就是它们都对精度有极高的要求。机床加工一般要求是毫米级别，而即便是很落后的光刻机，也要求达到纳米级别的精度。
要知道的是1毫米=1百万纳米，所以光刻机的精度要求几乎是普通机床的百万倍！光刻机有多难搞？
一位美国工程师的表示，一个零件就要调整多达数十年之久。
荷兰阿斯麦最先进的光刻机，集成了大量来自德国，日本，美国的技术。
光刻机的光源设备主要来自美国公司Cymer，镜头则来自德国蔡司。
据业内人士的说法，光刻机的零件几乎都是定制，90%使用了世界最先进的加工技术，甚至一些接口都要工程师，用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数可能高达百万次以上。
如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次。
而一台EUV光刻机，就需要差不多十万个零部件，这些零部件不可能，由一家公司自己生产出来。
阿斯麦之所以能成功，也是与美国，德国等众多企业合作的结果，而且还是靠美国军方的支持下，才有了现在的地位。
这也是为什么，美国一句话，就可以禁止他对华出售高端光刻机。
但是再怎么难，易安国也要挑战一下这个难度。
所以易安国不仅投资巨资，给自己的微电子设备公司搞技术研发，还投资给供应链上的公司，加快技术研发的进度，并入股这些公司。
比如物镜系统的国望光学，赛微电子。
尽管他们只能拿出90纳米节点的投影光刻机曝光系统，但只要继续研究，总会更进一步的。
而且90纳米节点的投影光刻机曝光系统，华星微电子设备公司也有用的。
造不出先进的光刻机，就先造90纳米制程工艺的光刻机，也是可以的，不仅国内有很大的市场，国际也有很大的市场。